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  • 場效應(yīng)管發(fā)熱嚴(yán)重的原因分析-場效應(yīng)管結(jié)構(gòu)特點(diǎn)與工作原理
    • 發(fā)布時間:2019-09-02 12:08:01
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    場效應(yīng)管發(fā)熱嚴(yán)重的原因
    場效應(yīng)管
    場效應(yīng)晶體管(Field Effect Transistor縮寫(FET))簡稱場效應(yīng)管。主要有兩種類型(junction FET—JFET)和金屬 - 氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)管(metal-oxide semiconductor FET,簡稱MOS-FET)。由多數(shù)載流子參與導(dǎo)電,也稱為單極型晶體管。它屬于電壓控制型半導(dǎo)體器件。具有輸入電阻高(107~1015Ω)、噪聲小、功耗低、動態(tài)范圍大、易于集成、沒有二次擊穿現(xiàn)象、安全工作區(qū)域?qū)挼葍?yōu)點(diǎn),現(xiàn)已成為雙極型晶體管和功率晶體管的強(qiáng)大競爭者。
    場效應(yīng)管(FET)是利用控制輸入回路的電場效應(yīng)來控制輸出回路電流的一種半導(dǎo)體器件,并以此命名。由于它僅靠半導(dǎo)體中的多數(shù)載流子導(dǎo)電,又稱單極型晶體管。
    場效應(yīng)管作用的特點(diǎn)及工作原理
    場效應(yīng)管是只要一種載流子參與導(dǎo)電,用輸入電壓控制輸出電流的半導(dǎo)體器件。有N溝道器件和P溝道器件。有結(jié)型場效應(yīng)三極管JFET和絕緣柵型場效應(yīng)三極管IGFET之分。IGFET也稱金屬-氧化物-半導(dǎo)體三極管MOSFET。
    MOS場效應(yīng)管有加強(qiáng)型(EnhancementMOS或EMOS)和耗盡型(MOS或DMOS)兩大類,每一類有N溝道和P溝道兩種導(dǎo)電類型。場效應(yīng)管有三個電極:D(Drain)稱為漏極,相當(dāng)雙極型三極管的集電極;G(Gate)稱為柵極,相當(dāng)于雙極型三極管的基極;S(Source)稱為源極,相當(dāng)于雙極型三極管的發(fā)射極。
    場效應(yīng)管,發(fā)熱嚴(yán)重的原因
    加強(qiáng)型MOS(EMOS)場效應(yīng)管道加強(qiáng)型MOSFET根本上是一種左右對稱的拓?fù)錁?gòu)造,它是在P型半導(dǎo)體上生成一層SiO2薄膜絕緣層,然后用光刻工藝擴(kuò)散兩個高摻雜的N型區(qū),從N型區(qū)引出電極,一個是漏極D,一個是源極S。在源極和漏極之間的絕緣層上鍍一層金屬鋁作為柵極G。P型半導(dǎo)體稱為襯底(substrat),用符號B表示。
    工作原理
    1.溝道構(gòu)成原理當(dāng)Vgs=0V時,漏源之間相當(dāng)兩個背靠背的二極管,在D、S之間加上電壓,不會在D、S間構(gòu)成電流。
    當(dāng)柵極加有電壓時,若0<Vgs<Vgs(th)時(VGS(th)稱為開啟電壓),經(jīng)過柵極和襯底間的電容作用,將靠近柵極下方的P型半導(dǎo)體中的空穴向下方排擠,呈現(xiàn)了一薄層負(fù)離子的耗盡層。耗盡層中的少子將向表層運(yùn)動,但數(shù)量有限,缺乏以構(gòu)成溝道,所以依然缺乏以構(gòu)成漏極電流ID。
    進(jìn)一步增加Vgs,當(dāng)Vgs>Vgs(th)時,由于此時的柵極電壓曾經(jīng)比擬強(qiáng),在靠近柵極下方的P型半導(dǎo)體表層中匯集較多的電子,能夠構(gòu)成溝道,將漏極和源極溝通。假如此時加有漏源電壓,就能夠構(gòu)成漏極電流ID。在柵極下方構(gòu)成的導(dǎo)電溝道中的電子,因與P型半導(dǎo)體的載流子空穴極性相反,故稱為反型層(inversionlayer)。隨著Vgs的繼續(xù)增加,ID將不時增加。
    在Vgs=0V時ID=0,只要當(dāng)Vgs>Vgs(th)后才會呈現(xiàn)漏極電流,這種MOS管稱為加強(qiáng)型MOS管。
    VGS對漏極電流的控制關(guān)系可用iD=f(vGS)|VDS=const這一曲線描繪,稱為轉(zhuǎn)移特性曲線。轉(zhuǎn)移特性曲線斜率gm的大小反映了柵源電壓對漏極電流的控制造用。gm的量綱為mA/V,所以gm也稱為跨導(dǎo)。
    跨導(dǎo)的定義式如下:
    gm=△ID/△VGS|(單位mS)
    場效應(yīng)管發(fā)熱嚴(yán)重的原因詳解
    1、電路設(shè)計的問題,就是讓MOS管工作在線性的工作狀態(tài),而不是在開關(guān)狀態(tài)。這也是導(dǎo)致MOS管發(fā)熱的一個原因。如果N-MOS做開關(guān),G級電壓要比電源高幾V,才能完全導(dǎo)通,P-MOS則相反。沒有完全打開而壓降過大造成功率消耗,等效直流阻抗比較大,壓降增大,所以U*I也增大,損耗就意味著發(fā)熱。這是設(shè)計電路的最忌諱的錯誤;
    2、頻率太高,主要是有時過分追求體積,導(dǎo)致頻率提高,MOS管上的損耗增大了,所以發(fā)熱也加大了;
    3、沒有做好足夠的散熱設(shè)計,電流太高,MOS管標(biāo)稱的電流值,一般需要良好的散熱才能達(dá)到。所以ID小于最大電流,也可能發(fā)熱嚴(yán)重,需要足夠的輔助散熱片;
    4、MOS管的選型有誤,對功率判斷有誤,MOS管內(nèi)阻沒有充分考慮,導(dǎo)致開關(guān)阻抗增大。
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